檢測認證人脈交流通訊錄
- 快速退火爐是利用鹵素紅外燈做為熱源，通過j快的升溫速率，將晶圓或者材料快速的加熱到300℃-1200℃，從而消除晶圓或者材料內部的一些缺陷，改善產品性能。
采用先進的微電腦控制系統，采用PID閉環控制溫度，可以達到*的控溫精度和溫度均勻性，并且可配置真空腔體，也可根據用戶工藝需求配置多路氣體。
應用領域：
1.快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RTN);
2.離子注入/接觸退火;
3.金屬合金;
4.熱氧化處理;
5.化合物合金(砷化鎵、氮化物等);
6.多晶硅退火;
7.太陽能電池片退火;
8.高溫退火;
9.高溫擴散。
快速退火爐主要由真空腔室、加熱室、進氣系統、真空系統、溫度控制系統、氣冷系統、水冷系統等幾部分組成。
真空腔室:真空腔室的工作空間，晶圓在這里進行快速熱處理。
加熱室:加熱室以多個紅外燈管為加熱元件，以耐高溫合金為框架、高純石英為主體。
進氣系統:真空腔室尾部有進氣孔，精確控制的進氣量用來滿足一些特殊工藝的氣體需求。
真空系統:在真空泵和真空腔室之間裝有高真空電磁閥，可以有效確保腔室真空度，同時避免氣體倒灌污染腔室內的被處理工件。
溫度控制系統:溫度控制系統由溫度傳感器、溫度控制器、電力調整器、可編程控制器、PC及各種傳感器等組成。
氣冷系統:真空腔室的冷卻是通過進氣系統向腔室內充入惰性氣體，來加速冷卻被熱處理的工件，滿足工藝使用要求。
水冷系統:水冷系統主要包括真空腔室、加熱室、各部位密封圈的冷卻用水。
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